Wymagania dla pomieszczeń czystych w przemyśle półprzewodników

Wymagania dotyczące pomieszczeń czystych w przemyśle półprzewodnikowym są następujące:
1Wysokie wymagania w zakresie czystości
Produkcja półprzewodników wymaga bardzo rygorystycznego środowiska czystego.ogólnie spełniające normy klasy 1 (równe lub mniejsze niż 10.1 mikronowa cząstka na metr sześcienny) do klasy 100 (równa lub mniejsza niż 100 cząstek 0,5 mikronowych na metr sześcienny).
2Dokładna kontrola temperatury i wilgotności
Materiały półprzewodnikowe są bardzo wrażliwe na temperaturę i wilgotność.o wilgotności względnej 40-60% i wahań nieprzekraczających ± 1 °C i ± 5% RH.
3Niezawodne i stabilne zasilanie i dystrybucja energii
Czyste pomieszczenie wymaga dedykowanego systemu zasilania i dystrybucji, aby zapewnić stabilne i nadmierne zasilanie, zapewniając normalną i nieprzerwaną pracę urządzeń procesowych.W tym samym czasie, konieczne jest posiadanie funkcji ochrony i filtrowania w celu zapobiegania zakłóceniom mocy.
4Rozsądny przepływ powietrza wolnego od pyłu
Pokoje czyste muszą być wyposażone w systemy filtracji i cyrkulacji powietrza wolne od pyłu, aby zapewnić rozsądne rozkład przepływu powietrza i uniknąć martwych zakątków, tak aby czyste powietrze mogło w pełni dotrzeć do każdego zakątku.Szybkość przepływu powietrza i ciśnienie powietrza należy również ściśle kontrolować, aby zapobiec odpływowi powietrza zewnętrznego lub zakłóceniu.
5Kompletny projekt sejsmiczny.
Biorąc pod uwagę wymagania w zakresie stabilności procesów półprzewodnikowych, pomieszczenia czyste zazwyczaj muszą przyjąć środki odporne na wstrząsy w celu zmniejszenia wpływu drgań zewnętrznych na proces.Fundament powinien być wystarczająco stabilny i wyposażony w urządzenia buforowe.
6Wybór materiału jest wolny od pyłu i zanieczyszczeń
Powierzchnia pomieszczenia czystego musi być wolna od pyłu i zanieczyszczeń, a także nie będzie wytwarzać cząstek.Na wejściu należy zainstalować zasłonę powietrzną, aby zapobiec wejściu pyłu.